EUV

黄仁勋称中国 2030 年将搞定国产先进光刻机，这一判断能否实现？

针对中国大陆半导体产业的追赶速度，不同国际巨头与机构存在预判分歧。英伟达CEO黄仁勋预判中国大陆有望在2030年左右打造出自主可控的先进光刻系统。而瑞银认为追上阿斯麦EUV核心技术至少需要十年，蔡司则认为实现纯EUV光刻机量产需十五年左右。分析认为，这种分歧源于对“先进光刻技术”定义标准的差异。